Deutsche Schüler schneiden bei Pisa schlecht ab. Die Gründe sind so vielfältig, dass sie jede Weltsicht bestätigen. Aber echte Lösungen sind komplexer. Ein IMHO von Johannes Hiltscher (Bildung, IMHO)

Größere Masken bringen bei High-NA-EUV die aktuelle Reticle Size zurück. Intel nutzt ASMLs nächste Scanner-Generation bereits in der Serienfertigung. (Halbleiterfertigung, Intel)